0791-86509676
成果名称：PECVD-200 等离子化学气相沉积系统
项目简介：
PECVD-200系统是专为使用有毒和易燃气体（如：P烷、As烷、甲烷以及氢气等）淀积薄膜设计的，具有更严格的密封措施和排风装置，淀积温度范围 100～450℃可调，可选600℃。可确保薄膜的高质量和工作的安全性。生成高质量SiNx、SiO2、α-Si和Poly-Si等薄膜。广泛应用于微电子和光电子领域科研和生产。
| 买卖双方需提供材料 | 转让成功后买家会获得 | |
| 买家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议和委托书上签字盖章 3、在办理文件副本请求书上签字盖章 |
专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 |
| 卖家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议上签字盖章 3、专利证书或者授权通知书原件 |
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