0791-86509676
成果名称：原子层沉积系统
项目简介：
ALD(原子层沉积)是一种可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在基体表面的方法。其原理是通过将气相前驱体脉冲交替地通入到反应器中，并沉积在基体表面，通过化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方式。原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度，成份和结构），优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。
| 买卖双方需提供材料 | 转让成功后买家会获得 | |
| 买家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议和委托书上签字盖章 3、在办理文件副本请求书上签字盖章 |
专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 |
| 卖家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议上签字盖章 3、专利证书或者授权通知书原件 |
|
使用会员在金轩知识产权网中的账户余额进行支付。
支付流程：余额账户充值、--选择余额支付
会员可通过邮局汇款转账的方式，向指定账户进行支付
支付流程：1.选择汇款支付--2.提交汇款凭证清晰照片
使用会员在金轩知识产权网中的账户余额进行支付。
支付流程：余额账户充值、--选择余额支付
使用会员在金轩知识产权网中的账户余额进行支付。
支付流程：余额账户充值、--选择余额支付
