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项目名称 |
915MHz高功率MPCVD法大面积金刚石膜均匀沉积技术 |
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单位名称 |
河北省激光研究所 |
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项 目 负责人 |
姓名 |
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职称 |
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电话 |
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项目简介 (500字内) |
该技术以75kW级915MHz高功率MPCVD装置为基础,通过对915MHz频率下等离子体的激发特性研究以及等离子体诊断,获得稳定可调的等离子体激发区域,建立稳定生产工艺,制备出大面积高品质金刚石膜。 主要技术指标:金刚石膜沉积面积直径达到5英寸(127mm),沉积厚度大于500µm,厚度偏差小于±5%,金刚石膜生长速率3.9-4.3µm/h。
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知识产权情况 |
自主知识产权 |
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成果成熟度 |
□实验室阶段 √小试阶段 □中试阶段 □市场化阶段 |
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成果转化方式 |
□技术转让 □技术开发 □技术入股 □股权投资 □许可使用 √合作开发 □其他() |
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成果转化的融资需求金额 |
500万元 |
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| 买卖双方需提供材料 | 转让成功后买家会获得 | |
| 买家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议和委托书上签字盖章 3、在办理文件副本请求书上签字盖章 |
专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 |
| 卖家 | 1、身份证复印件或企业营业执照 2、在平台提供的转让协议上签字盖章 3、专利证书或者授权通知书原件 |
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